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工商時報【涂志豪╱台北報導
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】

韓國半導體大廠三星電子（Samsung）日昨在上海舉辦技術論壇，對外說明晶圓代工策略，同時宣示鎖定爭取大陸IC設計廠代工訂單。三星指出，預計今年底10奈米可以上線，7奈米製程將採用最先進的極紫外光（EUV）微影技術，並將針對物聯網及汽車電子提供低功耗的28奈米全耗盡型絕緣層上覆矽（FD-SOI）製程。


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同時，三星原本只生產自有晶片的8吋晶圓廠，現在也將開放並爭取

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類比IC或LCD驅動IC等晶圓代工訂單。

台灣晶圓代工廠台積電、聯電、力晶等已分別以獨資或合資方式，赴大陸
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興建晶圓代工廠，三星電子在大陸的最大投資是西安的NAND Flash廠，並沒有在大陸設立晶圓代工廠的計畫。不過，三星選擇在上海舉行技術論
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壇，說明最新的晶圓代工策略，並宣示將爭取大陸IC設計廠代工訂單。

事實上，隨著大陸官方成立的中國國家集成電路產業發展基金（大基金）開始
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擴大投資，大陸

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半導體生產鏈持續擴大產能，產值也正在快速擴張，而大陸地區第二季IC設計業銷售額已經正式超越台灣，成為全球第二大IC設計產業群聚地，這也是為何全球晶圓代工廠都開始鎖定大陸市場的原因。

三星的晶圓代工晶圓廠主要有三個據點，包括位於韓國的8吋晶圓廠S1、位於美國德州的12吋晶圓廠S2、以及位於韓國Hwasung的12吋晶圓廠S3。另外，三星也將與台積電一樣，提供後段封測服務。而三星預估今年包含晶圓代工的邏輯製程月產能將達13.5～14萬片12吋晶圓及19萬片8吋晶圓，且預估至2017年底產能將擴充約15％。

隨著台積電宣布今年底將量產10奈米製程，2018年開始量產7奈米製程，三
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星也在技術論壇中說明先進製程布局，包括今年底可望開始進行10奈米投片，但將跳過採用浸潤式微影技術的7奈米，直接推出採用EUV微影技術的7奈米，預計至2018年底EUV技術可在250W光源下每天生產1,500片晶圓。三星認為，7奈米採用EUV可以擁有更好的成本架構，有助於爭取先進製程晶圓代工訂單。

三星認為大陸市場在電子錢包、無人機、電動車、自駕車等供應鏈有很好的創新
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，也將帶來新機會，所以除了支援先進製程，也
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將在明年第二季開始，提供可支援物聯網及汽車電子的28奈米FD-SOI製程。同時，三星也將開放8吋廠產能，配合本身在記憶體市場的優勢提供65奈米嵌入式快閃記憶體（eFlash）製程，以及70奈米高壓製程，爭取大陸市場類比IC、CMOS影像感測器、LCD驅動IC等代工訂單。



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